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半導體超純水設備在半導體生產(chǎn)中主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設備的冷卻水、電鍍?nèi)芤旱呐渲?。產(chǎn)品的質(zhì)量與產(chǎn)量密切相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化。細菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變?yōu)镹型硅片，導致器件性能下降。水中的顆粒，包括細菌，如果附著在硅片表面，會導致短路或性能惡化。可見，超純水在半導體行業(yè)的必要性。
產(chǎn)品介紹：
Onyx的EX-UPW-TOC產(chǎn)品主要由高透185nm的紫外燈管，高輸出石英套管，內(nèi)外電解拋光的一體化紫外反應器，高度精確的UV強度傳感器及智能自控系統(tǒng)組成。
185nmUV主要用于生產(chǎn)超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質(zhì)標準及電子工業(yè)部電子級水水質(zhì)標準。
電子級水UV-TOC控制系統(tǒng)
半導體超純水設備產(chǎn)品規(guī)格：
| 處理水量 | 2~60m3/h |
| 燈管配置 | 12~48支 |
| 燈管類型 | 85w/155w(185/254nm雙波段) |
| 石英套管 | T＞80%@185nm |
| 鎮(zhèn)流器 | 50~100%輸出功率可調(diào) |
| 反應器材質(zhì) | 316L |
| 潔凈等級 | 內(nèi)外電解拋光、表面光潔度10以上（≤Ra0.2） |
| 法蘭尺寸 | DN50~DN200 |
| 額定壓力 | PN10 |
| 控制柜等級 | IP55，碳鋼噴塑 |
| 控制系統(tǒng) | 本地/遠程、觸摸屏、連接SCADA系統(tǒng) |
| UV強度傳感器 | 分辨率0.01mw/cm2 |
集成電路超純水應用領域：
1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板
2. 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
3. 電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
4. 黑白顯像管熒光屏的生產(chǎn)、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗
5. 液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面清洗
6. 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產(chǎn)
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